钽靶材： 

材质：纯钽

纯度: ≥99.95%

美标.: RO5200，RO5400

标准: ASTM B708

形状:    自定义

清晰度:0.1’’-2’’, 直径r:2”-20”

直径公差: + / - 0.008”

应用：钽靶主要应用于半导体和磁记录等薄膜溅射行业

再结晶：最少95%
晶粒度：最小40μm
表面粗糙度：Ra 0.8 最大
平整度：0.1mm or 0.10% 最大